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东芝和闪迪就EUV曝光技术与IMEC合作

发布时间:2020-06-28 11:27:13 阅读: 来源:睡裙厂家

比利时微电子研究中心(IMEC)在“2015 IMEC科技论坛”(2015年6月23~24日,布鲁塞尔)开幕之际宣布,东芝和美国闪迪公司加入了该中心的新一代光刻技术合作开发项目“Industrial Affiliation Program on Advanced Pattering”(英文发布资料)。该项目研究在量产中采用EUV(超紫外线)光刻技术和延长ArF液浸曝光寿命。

东芝和闪迪自2011年以后一直作为主要合作伙伴,参与IMEC的新一代存储器合作开发项目“Industrial Affiliation Program on Advanced Memory”。此次决定以扩大合作的方式,参与Advanced Patterning项目。

潜力用户全都参与其中

该项目已有美国英特尔、韩国三星电子、台积电、美国格罗方德半导体、美国美光科技、韩国SK海力士、松下和索尼作为主要合作伙伴参与。此次,东芝和闪迪加入后,在量产中极有可能使用EUV光刻的半导体企业就悉数到齐。

IMEC于2015年5月12日与JSR就提供EUV光刻材料的制造和品质管理服务达成了合作协议。根据协议,双方将成立合资公司,JSR的出资将占大半(参阅本站报道)。

在光刻技术开发上,IMEC与从事EUV曝光装置的荷兰阿斯麦公司从1980年代起就建立了“紧密”关系。阿斯麦的EUV光刻技术人员现在都在IMEC。IMEC拥有完善的EUV光刻基础设施(装置和材料),聚集了来自全球的相关研究人员。(特约撰稿人:服部毅,Hattori Consulting International)

(责任编辑:HT002)

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