东芝和闪迪就EUV曝光技术与IMEC合作

发布时间：2020-06-28 11:27:13 阅读：次来源：睡裙厂家

比利时微电子研究中心（IMEC）在“2015 IMEC科技论坛”（2015年6月23～24日，布鲁塞尔）开幕之际宣布，东芝和美国闪迪公司加入了该中心的新一代光刻技术合作开发项目“Industrial Affiliation Program on Advanced Pattering”（英文发布资料）。该项目研究在量产中采用EUV（超紫外线）光刻技术和延长ArF液浸曝光寿命。

东芝和闪迪自2011年以后一直作为主要合作伙伴，参与IMEC的新一代存储器合作开发项目“Industrial Affiliation Program on Advanced Memory”。此次决定以扩大合作的方式，参与Advanced Patterning项目。

潜力用户全都参与其中

该项目已有美国英特尔、韩国三星电子、台积电、美国格罗方德半导体、美国美光科技、韩国SK海力士、松下和索尼作为主要合作伙伴参与。此次，东芝和闪迪加入后，在量产中极有可能使用EUV光刻的半导体企业就悉数到齐。

IMEC于2015年5月12日与JSR就提供EUV光刻材料的制造和品质管理服务达成了合作协议。根据协议，双方将成立合资公司，JSR的出资将占大半（参阅本站报道）。

在光刻技术开发上，IMEC与从事EUV曝光装置的荷兰阿斯麦公司从1980年代起就建立了“紧密”关系。阿斯麦的EUV光刻技术人员现在都在IMEC。IMEC拥有完善的EUV光刻基础设施（装置和材料），聚集了来自全球的相关研究人员。（特约撰稿人：服部毅，Hattori Consulting International）

（责任编辑：HT002）